ヒストン修飾

　クロマチン構成タンパク質であるヒストンのN末端領域に認められるアセチル化，メチル化，リン酸化，ユビキチン化などの化学修飾は，染色体の高次構造を変化させ，ダイナミックに転写を制御し，発生，分化，細胞運命の維持において重要な役割を担っている。

ヒストンのコア領域に含まれないN末端・C末端側の領域をヒストンテールと呼び、アセチル化、メチル化、リン酸化、モノユビキチン化など様々な翻訳後修飾を受けていることが報告されています。これらの修飾はクロマチン構造を変化させ、エピジェネティックな遺伝子発現制御に関わっていると考えられています。

一般的に，ヒストンアセチル化は転写活性化に働くが，ヒストンメチル化の意義は標的アミノ酸残基の種類とヒストンテイルにおける位置により異なる．これらのヒストン修飾は，ヒストン修飾を付加または除去する酵素群により動的に制御されている．転写活性化に働くヒストンH3のリジン4トリメチル化（H3K4me3）活性を有するトライソラックス群（TrxG）および転写抑制に働くヒストンH3のリジン27トリメチル化（H3K27me3）活性を有するポリコーム群（PcG）は，それぞれヒストン修飾を担う複合体を形成している．

ES細胞では，分化制御遺伝子のプロモーター領域に，H3K27me3（転写抑制）とH3K4me3（転写活性化）が共存する“bivalent domain”が形成されており，このバランスにより分化制御遺伝子の発現が制御され，ES 細胞の分化状態が規定されている。

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　⇒　ヒストン (histone)