フォトエッチング（photo etching））

写真の原理を利用した微小加工技術。方法自体は印刷用の写真製版作成に古くから用いられているものと同じ。トランジスタやICの製造には不可欠なもので，高精度が要求される。たとえば，基板をエッチング加工する場合，基板にフォトレジスト（感光性樹脂）を塗布する。その後，マスクを用いて露光，現像過程を経て，基板上にフォトレジストパターンを形成する。この後，基板をエッチングする，これがエッチングマスクとなる。これら一連の工程をフォトエッチングという。

●　フォトレジスト（photo resist）

感光性樹脂の一つ。フォトレジストにフォトマスク を使って回路パターンを露光・現像しパターン転写を行う。これには，ポジレジストとネガレジストがある。 フォトマスクは、レティクルという場合もある。IC製造工程でステッパなどによってウェハ上にマスク・パターンを転写する露光工程で使用される。石英製の板表面にクロムなどで一定の回路パターンを形成したものである。