Subject   : イオン注入(ion implantation)

カテゴリー  : 半導体 


 イオン注入(ion implantation)
イオン打ち込みともいい、固体の性質を変えるための不純物原子を、 イオン化して加速し,固体中に打ち込む。
半導体の一部をp型やn型,または低抵抗にするための方法の一つ(不純物注入)。MOSトランジスタのソースやドレイン形成に利用する。熱拡散などで不純物を導入する方法に比べて,不純物の濃度やその分布を制御しやすい。
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