Subject   : RVD ( Rapid Vapor-phase Doping )

カテゴリー  : 半導体 > プロセス 


 RVD ( Rapid Vapor-phase Doping )
 気相ドーピングのこと。ウェーハを一定時間ドーパントガスに暴露した後、ガスの供給を停止し、その後 RTP の処理を行うと、ウェーハ表面に吸着したガス分子を拡散源としてドーピングが行われる。通常の熱拡散が高ドーズの拡散用であるのに対して、吸着量が少ないので低ドーズの浅い接合を形成することが可能。

□ RTVD: Room Temperature Vapor Deposition
 
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