RVD ( Rapid Vapor-phase Doping )

　気相ドーピングのこと。ウェーハを一定時間ドーパントガスに暴露した後、ガスの供給を停止し、その後 RTP の処理を行うと、ウェーハ表面に吸着したガス分子を拡散源としてドーピングが行われる。通常の熱拡散が高ドーズの拡散用であるのに対して、吸着量が少ないので低ドーズの浅い接合を形成することが可能。

□　RTVD: Room Temperature Vapor Deposition

　

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