位相シフトマスク（Phase Shift Mask）

　　半導体露光用のマスクでパターンの透過部で一つおきにシフタを設け、通過する光の位相を交互にπ(180度)ずらしたマスクのこと。

このマスクで露光するとシフタを通った光とシフタを通らない光の振幅は反転する。このためウエハー上での光強度はパターンの境目で0となり、繰り返しパターンは解像する。シフタの厚さをd、屈折率をn 、波長をλ、位相をθとするとき、d=λθ/(2π(n-1))の関係がある。θ=πのときd=λ/2(n-1)である。多くのタイプの位相シフトマスクが開発されている。実用になっている繰返しパターンに有効なレベンソン型、コンタクトホールの露光に使われているハーフトン型の他にエッジ型、透過型、自己整合型、補助パターン型などがある。

■　超解像フィルタ（Super Resolution Filter）

　　中心部の透過率が低く、周辺部に行くにしたがって透過率が大きくなるフィルタ。このフィルタをレンズの入射瞳に設置すると、光束の中央部の強度のウエイトが低くなるため、高周波のコントラストを高めることができる。解像度は向上するが、逆に低周波のコントラストは低下する。また1次回折光の強度が強くなり、エアリディスクのリングの強度が強くなる。超解像フィルタとは逆の方式にアポダイゼーションがある。

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