NIL（ナノインプリントリソグラフィー）

　ナノインプリント（NIL）とは、樹脂をモールド（型）と基板で挟み込み、ナノメートルオーダーのパターンを転写する微細加工技術です。 ナノインプリント（NIL）の工程は、（1）塗布、（2）プレス、（3）転写、（4）離型、の4つの要素からなり、非常に単純なプロセスでナノサイズの加工が完成します。装置が簡易で高スループットが期待されるため、低コストで量産できる微細加工技術として期待されています。半導体デバイス、ストレージメディア、バイオ、光学部材など多方面の分野で、実用化への取組みが進んでいます。

　ナノインプリント（NIL）は、他の微細加工技術では困難な大面積加工が可能な点が最大の特長です。適用できる加工寸法・面積の範囲が非常に広いため、幅広い用途に対応できます。加工精度も非常に良好であり、半導体リソグラフィーを凌駕する解像度を示します。

ナノインプリントには主に熱方式と光（UV）方式の2種類があります。中でもUVナノインプリント（UV-NIL）は転写性とプロセス速度の点で圧倒的に優位です。室温で瞬時硬化が可能な光硬化性樹脂を使用するため、加熱、加圧によるパターン変形を生じず、高速プロセスが可能です。

　○　UV-NIL

UV-NILは、UV硬化型樹脂を使用した低コスト生産対応に適した技術です。サブ100nmの造形が可能な高解像度eビームリソグラフィー技術の廉価版として開発された技術です。UV-NILソリューションは、半導体、MOEMS、NEMSやオプトエレクトロニクスにおいて次世代技術となる可能性を秘めています。新MA/BA8片面UVインプリントツールはフィールドでのアップグレードが容易で、既存のズース マスクアライナをお持ちのお客様を、直ちにナノの世界へご案内いたします。ズースUV-NILインプリンティング技術は、UV硬化樹脂、フォトレジスト、ポリマーといった多様な材料にできます。

　○　ナノインプリント技術で使うモールド（金型）

ナノインプリント技術で使うモールド（金型）は、半導体やフォトマスク製造技術を利用して作ります。

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