リソグラフィ（lithography）

マスクに描かれた回路パターンをウェハ上に露光転写する工程または技術です。

ウェハに感光剤（レジスト）を塗布し，これにマスクのパターンを焼き付け，現像する。光の当たったところとそうでないところで，現像後にレジストが残る／残らないに分かれ，レジストの凹凸パターンとなる。この仕組からリソグラフィ（石版）と呼ばれる。このレジストパターンをたよりに，ウェハに微細な加工を加える。これには，エッチング（削り取る），デポジション（別の材料を堆積する），ドーピング（適当な不純物をしみ込ませる）がある。リソグラフィには，紫外線を使う光露光（フォトリソグラフィ）のほか，電子線露光，X線露光などがある。

光リソグラフィは波長248nmのKrFエキシマレーザリソグラフィが使用され、波長193nmのArFエキシマレーザリソグラフィが量産に用いられつつあります。今後の微細化に対応して、波長が157nmのF2レーザーリソグラフィ、さらに波長が13.5ｎｍ近傍の極端紫外光（Extreme　Ultra　Violet,ＥＵＶ）によるＥＵＶリソグラフィ(極端紫外線露光ともいいます)への移行が見込まれています。

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