Subject   : リソグラフィ(lithography)

カテゴリー  : 半導体 


  リソグラフィ(lithography)
マスクに描かれた回路パターンをウェハ上に露光転写する工程または技術です。

ウェハに感光剤(レジスト)を塗布し,これにマスクのパターンを焼き付け,現像する。光の当たったところとそうでないところで,現像後にレジストが残る/残らないに分かれ,レジストの凹凸パターンとなる。この仕組からリソグラフィ(石版)と呼ばれる。このレジストパターンをたよりに,ウェハに微細な加工を加える。これには,エッチング(削り取る),デポジション(別の材料を堆積する),ドーピング(適当な不純物をしみ込ませる)がある。リソグラフィには,紫外線を使う光露光(フォトリソグラフィ)のほか,電子線露光,X線露光などがある。

光リソグラフィは波長248nmのKrFエキシマレーザリソグラフィが使用され、波長193nmのArFエキシマレーザリソグラフィが量産に用いられつつあります。今後の微細化に対応して、波長が157nmのF2レーザーリソグラフィ、さらに波長が13.5nm近傍の極端紫外光(Extreme Ultra Violet,EUV)によるEUVリソグラフィ(極端紫外線露光ともいいます)への移行が見込まれています。
 ⇒ 次世代のリソグラフィ技術

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