Low-k（low dielectric constant film）

　低誘電率膜。IC で最も広く用いられている絶縁膜である二酸化シリコン（SiO2，比誘電率が約 4）より低い比誘電率をもつ膜の総称。多層配線による信号遅延の問題を避けるため，層間絶縁膜として有機物やポーラス（多孔質）材料まで含めてさまざまな材料，薄膜が開発されている。

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