Subject : ハンプフリーめっき
カテゴリー : 半導体 > プロセス
ハンプフリーめっき
めっき層の段差を最小・緩和とするためのめっき方法。この技術により、めっき工程後に行われる CMP 工程での不良率を低減する
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CMP(chemical mechanical polishing)
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